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破壞性物理分析

通過(guò)破壞性物理分析，驗(yàn)證元器件的設(shè)計(jì)、結(jié)構(gòu)、材料和制造質(zhì)量是否滿足規(guī)范要求。這包括對(duì)生產(chǎn)批的元器件進(jìn)行非破壞性和破壞性的檢查和分析，獲取元器件的批質(zhì)量信息。

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試驗(yàn)項(xiàng)目

確定失效原因的物理分析(PFA)，通常需要包含樣品制備和觀測(cè)兩部分。
樣品制備包含開(kāi)蓋去除封膠 (Decap)、芯片去層 (Delayer)、樣品前制樣 (結(jié)構(gòu)去除/冷埋塑封/裁切/解焊取樣)、剖面/晶背研磨 (Crosssection/Backside)、離子束剖面研磨 (CP)、樣品制備。
觀測(cè)包含掃描式電子顯微鏡 (SEM)測(cè)試&能量色散X射線光譜成份分析（EDX）、電子背散射衍射分析（EBSD）。


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